
駒形技術士事務所 オンラインセミナー
第3回 半導体工場ユーティリティ講座
【講師】
駒形 信幸(技術士/電気電子部門)
駒形技術士事務所 所長。
40年以上にわたり、半導体デバイス・プロセス・工場インフラ分野に携わる。
デバイス開発・設計、プロセス開発・設計、品質・信頼性、歩留まり改善、人材育成を専門とし、
企業・団体向け技術セミナー、技術支援を多数実施。
【対象】
プロセス技術、装置技術、品質・歩留まり、生産技術、設備保全など、半導体製造に関わる技術者・担当者。
【こんな方におすすめ】
クリーンルーム、超純水、真空、ガスなどの個別知識はあるものの、
工場全体としての相互関係や、歩留まり・再現性不良とのつながりが整理できていない方。
【半導体工場を支えるユーティリティ】
本講座は「半導体プロセス・デバイス技術セミナー(全6回)」の第3回として、
半導体工場を安定稼働させるためのユーティリティ技術を体系的に解説します。
クリーンルーム、超純水、真空、ガス、排気・安全などを、装置単体の要素ではなく
「工場全体を支える基盤インフラ」として整理し、
品質・歩留まり・生産性・安全性に直結する要点を、実例も交えて分かりやすく学びます。
※トラブル時の切り分けに役立つユーティリティ起因の見方を、事例を通して学びます。
開催概要
以下は、本講座で扱う主なテーマの概要です。
【セミナー概要】
本講座では、半導体工場の安定稼働を支える「工場ユーティリティー」をテーマに、現場で必須となる基礎知識から実務視点までを体系的に解説します。
まず、工場ユーティリティーの役割と重要性を整理し、製造装置やプロセスを支えるインフラとしての位置づけを明確にします。続いて、クリーンルームにおける防塵管理、気流方式、ミニエンバイロメント、ウェハ搬送、化学汚染・金属汚染対策、EMI対策など、品質と歩留まりに直結する管理技術を学びます。
さらに、洗浄・薬液工程に不可欠な超純水について、その品質指標や製造設備、管理のポイントを解説します。加えて、真空機器・ガス分野では、真空ポンプ、真空計、流量制御、ガス供給設備、安全管理までを網羅的に整理し、装置トラブルや再現性不良の背景を理解できる力を養います。
後半では、環境規制・安全衛生関連法規、危険物管理、PL法、労働安全対策など、半導体工場運営に不可欠な法令・安全管理の知識も体系的に解説します。
本講座は、プロセス技術者、設備技術者、品質管理担当者、工場管理者の方をはじめ、半導体製造を「設備・環境・安全」の視点から深く理解したい方に最適な内容です。
【内容】
1.半導体工場ユーティリティー概要
1-1.半導体工場ユーティリティーの役割と位置づけ
2.クリーンルーム
2-1.防塵管理と清浄環境制御
(1)防塵管理
(2)クリーンルームの方式
(3)HEPAフィルターとULPAフィルター
2-2.搬送・局所清浄化技術
(1)ミニエンバイロメント方式
(2)ウェハキャリア
2-3.化学汚染・金属汚染対策
(1)化学汚染
(2)ケミカルフィルター
(3)金属汚染
2-4.電磁・微粒子挙動と影響
(1)EMI(電磁干渉)
(2)ブラウン運動(Brownian motion)
3.超純水
3-1.超純水の基礎概念
(1)超純水とは
(2)純水のスペック
3-2.超純水の品質管理
(1)超純水の品質
(2)超純水の性質
3-3.超純水製造システム
(1)超純水製造装置
4.真空機器・ガス
4-1.真空ポンプと排気系
(1)真空ポンプ
(2)真空ポンプの種類
(3)ドライポンプ
4-2.真空計測・リーク検査
(1)真空計
(2)ヘリウムリークディテクタ
(3)四重極質量分析計
(4)クラッキングパターン
4-3.ガス流量・圧力制御
(1)マスフローコントローラ
(2)フロート型流量計
(3)減圧弁(レギュレータ)の1次側・2次側
4-4.ガス供給・管理と安全
(1)ガスの性質
(2)ボンベの塗色とガスの種類
(3)特定高圧ガスの消費
(4)ガス警報器と爆発下限界(LEL)
(5)除害装置
4-5.ガス物性・真空物理の基礎
(1)露点(露点温度)
(2)粘性流と分子流
(3)物質の相変化と熱
(4)臨界温度
5.環境問題と安全衛生
5-1.環境規制・法制度の基礎
(1)環境問題と規制
(2)循環型社会形成推進基本法
5-2.化学物質・危険物管理
(1)有機溶剤中毒予防規則
(2)消防法における危険物等
5-3.製品責任・事業者責任
(1)PL法(Product Liability)
5-4.労働安全衛生管理
(1)労働安全衛生関係法令
(2)作業場の照度
(3)保護具
5-5.災害防止とリスクマネジメント
(1)ハインリッヒの法則
受講後に得られること(到達目標)
・工場ユーティリティを工場全体の視点で説明できる
・トラブル時にユーティリティの変動を疑う観点で切り分けができる
・設備・現場・工程との議論が整理でき、再発防止や安定稼働につなげられる
開催日:2026年1月20日(火)
時間:10:30~16:30(途中休憩・昼休憩あり/講義+質疑 ※講義時間:約5時間)
形式:オンライン講座(Zoom)
受講料:30,000円/1名(税込)
※ 図解を用いながら、実務イメージを重視して解説します。
お申し込みにあたってのご案内
※ 本講座は少人数制・先着順で受付します。
※ 定員に達し次第、受付を終了します。
※ 開催日が近づいた場合、早期に受付を締め切ることがあります。
よくあるご質問
Q1. 過去回を受講していなくても参加できますか?
→ はい。
本講座は1回完結型のため、過去回を受講していなくても問題ありません。
Q2. 支払い方法を教えてください。
→ 銀行振込でのお支払いとなります。
お申し込み後、振込先をメールにてご案内します。
Q3. 営業や勧誘はありますか?
→ ありません。
本フォームからの送信後、営業・勧誘目的の連絡は行いません。
Q4. 領収書は発行できますか?
→ はい。お申し込み後、必要に応じて発行いたします。
お申し込みフォーム
以下のフォームよりお申し込みください。
お申し込み後、事務局より受講方法(Zoom)および
受講料のお支払い方法(銀行振込)をご案内いたします。
※本フォームは技術セミナー申込み専用です。営業・宣伝目的の内容はご遠慮ください。
本講座は、半導体プロセス・デバイス技術セミナー(全6回)の第3回にあたります。